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製品総合案内真空装置設計・製作>真空加熱システム

 specer vacuum heat system  

specer

  真空下で試料を加熱するための各種システムを製作いたします。  
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ランプ加熱方式
 vacuum heat sys fig1 square black 特長
真空装置内で、スポット加熱が用意に行なえますので、試料のプリ洗浄として、大きな威力を発揮しています。 また、ランプ配置とプレートを工夫することで、大面積でも均一な温度分布を得ることができます。

最高温度:250℃(スポットで800℃)
 
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高周波加熱方式
 vacuum heat sys fig2

square black 特長
高周波誘導加熱システムを小型化し、真空内での急速加熱、高温加熱、無機物の加熱に応用できるため、研究、試作向けにご利用いただける加熱装置になっています。

最高温度:1200℃

 
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抵抗加熱方式
 vacuum heat sys fig3 square black 特長
ヒーター部が真空に露出していないので、脱ガスが少なくなります。 また、酸素雰囲気でも使用可能です。

最高温度:500℃
 
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K-Cell

 vacuum heat sys kcell square black 特長
セル内の温度を均一にする工夫がなされており、均一に材料を蒸着することができます。

最高温度:1300℃