|
製品総合案内＞真空装置設計・製作＞真空加熱システム
|
 |
 |
|
| |
真空下で試料を加熱するための各種システムを製作いたします。 |
|
|
 |
|
| |
| ランプ加熱方式 |
 |
 特長
真空装置内で、スポット加熱が用意に行なえますので、試料のプリ洗浄として、大きな威力を発揮しています。 また、ランプ配置とプレートを工夫することで、大面積でも均一な温度分布を得ることができます。
最高温度：250℃（スポットで800℃） |
|
|
| |
|
|
| |
| 高周波加熱方式 |
 |
特長
高周波誘導加熱システムを小型化し、真空内での急速加熱、高温加熱、無機物の加熱に応用できるため、研究、試作向けにご利用いただける加熱装置になっています。
最高温度：1200℃
|
|
|
| |
|
|
| |
| 抵抗加熱方式 |
 |
特長
ヒーター部が真空に露出していないので、脱ガスが少なくなります。 また、酸素雰囲気でも使用可能です。
最高温度：500℃ |
|
|
| |
|
|
| |
|
K-Cell
|
 |
特長
セル内の温度を均一にする工夫がなされており、均一に材料を蒸着することができます。
最高温度：1300℃ |
|
|
| |
|
|
| |
|
|
